Fotolithografie (Halbleitertechnik)

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• Einsatz und Bedeutung des Verfahrens bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltkreisen
• Einfluss verschiedener Prozessparameter, z. B. Belichtungsdosis, Fokus, Schichtdicke
• wichtige Inspektionsparameter
• typische Fotolacke und Kurzinformationen zur chemischen Reaktion während der Belichtung (z. B. Novolake)
• schematischer Aufbau einer typischen Belichtungsanlage

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Die Fotolithografie (auch Photolithographie) ist eine der zentralen Methoden der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen und weiteren Produkten. Dabei wird mit Hilfe eines Belichtungsprozesses das Bild einer Fotomaske auf einen lichtempfindlichen Fotolack übertragen. Anschließend werden die belichteten Stellen des Fotolacks aufgelöst (alternativ ist auch die Auflösung der unbelichteten Stellen möglich, wenn der Fotolack unter Licht aushärtet). So entsteht eine lithografische Maske, die die weitere Bearbeitung durch chemische und physikalische Prozesse ermöglicht, etwa das Einbringen von Material in die offenen Fenster oder das Ätzen von Vertiefungen unter den offenen Fenstern.